中微：MOCVD設備毛利率提升，未來聚焦Mini/Micro LED領域
作者：山東LED顯示屏廠家 發布時間：2022-03-07 11:35 瀏覽次數 :
3月1日，中微半導體設備（上海）股份有限公司（簡稱"中微公司"）發布了投資者關系活動記錄表，向投資者透露了公司刻蝕產品和 MOCVD產品等業務近況。
2021年，中微公司營業收入 31.08 億元，其中刻蝕設備收入為 20.04 億元，占收入比例約為 64.48%；MOCVD設備收入為 5.03 億元，占收入比例約 為 16.18%。而2021年新簽訂單 41.3 億元，同比增長 90.5%，其中以刻蝕產品為主。
產品交期方面，中微公司的半導體刻蝕產品、MOCVD設備在 2021 年保持準時交付，而目前刻蝕設備交期較過去有所延長。
值得一提的是，中微公司于2021年6月發布Prismon UiMax™ MOCVD設備，用于氮化鎵基MiniLED外延片量產。截至2021年12月9日， Prismo UniMax™ MOCVD設備訂單超過100腔，毛利率有較大幅度的提升。對此，中微公司表示，新款MOCVD設備Prismo UniMax™ 主要針對 MiniLED 設計，性能、復雜性顯著提高，可為客戶提供更多的價值，因此毛利率有明顯增長。
對于MiniLED市場前景與公司相應布局，中微公司指出，2021年以來，MiniLED在電視機領域取得了良好應用，在顯示器、筆記本、平板等領域，MiniLED 產品也不斷誕生并開始批量出貨。未來，公司 MOCVD設備的銷售也將以 MiniLED（背光領域）和 Micro LED（直顯領域）設備為主。
刻蝕設備業務方面，中微公司積極關注下游市場擴產計劃并努力爭取各種市場機會。目前，刻蝕設備在國內主要客戶端市場占有率不斷提升。在邏輯集成電路制造環節，公司開發的 12 英寸高端刻蝕設備已運用在國際知名客戶 65 納米到 5 納米等先進的芯片生產線上。
薄膜設備方面，中微公司透露，目前已經組建團隊在開發LPCVD設備和 EPI 設備，研發進展按計劃進行中，同時公司將在適當時機通過并購等外延式成長途徑擴大產品和市場覆蓋。
對于公司南昌基地和臨港基地建設進展情況，中微公司透露，南昌基地和臨港基地建設進展按照公司既定計劃正常進行中。其中，南昌基地目前廠內主要道路已施工完畢，各主要單位建筑均已封頂。臨港產業化基地于 2021 年 6 月 20 日舉行開工儀式，規劃總建筑面積約 18 萬平方米，現已封頂。
據了解，中微南昌基地目總投資約10億元，總建筑面積約14萬平方米，項目總投資約10億元，基地用于MOCVD（有機金屬化學氣相沉積）裝備研發、制造及創新中心。中微臨港基地項目總投資約15億元，項目建成可滿足集成電路、泛半導體設備的研發、測試和產業化需求。
